拋光概述
(一)拋光簡介
拋光一般指對工作表面進行的最終的光飾加工。主要目的是去除前道工序的加工痕跡(刀痕、磨紋、劃印、麻點尖棱、毛刺等)，改善工件的表面粗糙度或使產品獲得光亮光滑的表面。作為中間工序，拋光是為涂裝、電鍍等后續工序提供涂膜、鍍層附著能力強的表面，以提高涂裝、電鍍的質量。經拋光后的工作表面粗糙度值一般可達Ra0.4μm以下。
(二)拋光機理
拋光加工模型如下圖所示，其機理有以下幾種作用。
拋光加工模型
(1) 微切削作用。主要指磨粒切除微量切屑。
(2) 塑性流動作用。由于摩擦，接觸點溫度上升而引起的熱塑性流動。
(3) 彈性破壞作用。在晶體結構材料中，由于晶格缺陷的存在，一般大約在1μm的間隔內就有一個位缺缺陷。在精密拋光時，其加工應力的作用范圍是在位錯缺陷平均分布間隔(1μm)以內的區域，因此無塑性破壞，業務殘留變質層，而是原子單位級的彈性破壞。
(4) 化學作用。如在拋光劑中添加活性物質，則在拋光時活性物質會與被加工表面材料起化學反應產生某種生成膜，被磨粒反復去除。
拋光用磨料與拋光劑
(一)拋光用軟磨料
拋光用軟磨料的種類和特性見下表
拋光用軟磨料的種類和特征
(二)拋光劑
由粉粒狀的拋光用軟磨料與油及其他適當成分介質混合而成。拋光劑的種類很多，在常溫下可分為固體及液體兩種。固體拋光劑由可分為油脂性和非油脂性兩類。液體拋光劑又大致分為乳濁狀型、液狀油脂型及液狀非油脂型三類。用得較多的是固體拋光劑，其種類及用途見下表。
固體拋光劑的種類和用途
在固體拋光劑中使用最普通的是熔融氧化鋁，它和拋光輪見的膠接牢靠，碳化硅則較差。使用受到一定的限制。
液中拋光用的拋光液，一般采用由氧化鉻和乳化液混合而成的液體。氧化鉻要嚴格經5~10層細紗布過濾，過濾后的磨粒粒度相當于W5~W0.5.拋光液應保持清潔，若含有雜質或氧化鉻和乳化液混合不均勻，會使拋光表面產生“桔皮”、“小白點”、“劃圈”等缺陷，此外還須注意工作環境的清潔。從粗拋過渡到精拋，要逐漸減少氧化鉻在拋光液中的比例，精拋時氧化鉻所占比例極小。
